解决方案 电子与半导体超纯水

电子与半导体超纯水

电子与半导体超纯水系统的 EDI 供电

ELECTRONICS ULTRA-PURE WATER

半导体、面板与电子级超纯水对产水电阻率的要求通常在 18 MΩ·cm 附近,EDI 位于 RO 之后、抛光混床之前,承担连续的深度除盐任务。这类系统多为 24 小时连续运行,对电源的连续工作能力、保护完整性与远程监控要求更高。

WY-5000 支持恒流运行与 Modbus 远程调节,可在中控室完成模式切换与电流设定;8 类保护覆盖缺水、缺相、过热等常见故障,配合故障自诊断与继电器输出,便于接入厂务监控系统做联锁与报警。

常见工况与配置建议

多套膜堆并联时,建议每套膜堆单独配一台电源与仪表,避免一套故障影响整条产线;需要集中监控时,通过 RS485 手拉手接入厂务系统,按地址区分。

应用场景

半导体厂务超纯水站

多级 RO + EDI + 抛光混床,EDI 段需要连续稳定供电与远程可调。

面板与光伏行业纯水

用水量大、负载波动明显,恒流运行可减少水质随负荷波动。

电子级清洗用水

末端用水点对电阻率敏感,供电异常需快速告警并切断。

系统功能

恒流运行

按设定电流输出,膜堆内阻变化只反映为电压变化,产水水质更稳定。

缺水联锁

无水流时立即切断输出,配合流量开关与继电器输出保护膜堆。

远程通讯

Modbus / RS485 接入 PLC 或监控系统,远程设定模式与电压电流。

故障自诊断

过压、过流、缺相、过热等异常自动告警,缩短现场排查时间。

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